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汤晓燕 | |||
性 别: | 男 | 职 称: | 教育,高等学校教师,教授 |
籍 贯: | 陕西省 西安市 | 现 居 地: | |
毕业院校: | 西安电子科技大学 | 专 业: | 微电子学与固体电子学 |
查看更多个人信息 | |||
出生年月: | 工作单位: | 西安电子科技大学微电子学院 | |
邮 箱: | 联系电话: | ||
学 历: | 博士 |
【人物简介】
汤晓燕,女,教授,硕士生导师,IEEE Member,1997年获得陕西师范大学物理专业学士学位,2002年获得西安电子科技大学微电子学与固体电子学专业硕士学位,2008年获得西安电子科技大学微电子学与固体电子学专业博士学位。2002年晋职讲师,2005年晋升副教授,2012年晋升教授。从事宽禁带半导体材料SiC器件的模拟、仿真和新器件研制方面的研究工作。
【研究方向】
1、宽禁带半导体材料 2、SiC大功率器件设计及应用 3、SiC新型器件模型和仿真
【研究成果】
【科研项目】
1、国家自然科学青年基金项目“新型高功率4H-SiC JBS二极管的研究” ,项目负责人 2、国家自然科学面上基金项目“新型高效4H-SiC MOSFET的研究” ,项目负责人 3、中央高校基本科研业务费项目““4H-SiC浮动结JBS二极管关键技术研究” ,项目负责人 4、作为主要成员参与重大专项、教育部支撑计划项目、国家自然基金重点项目等。
【论文著作】
[1]. Tang Xiao-Yan, Song Qing-Wen, Zhang Yu-Ming, Zhang Yi-Men,Investigation of 4H-SiC MIS Structure with Al2O3/SiO2 Stacking Dielectric Chinese physics B Vol21 Number 8 2012.8 [2]. Tang Xiao-yan , Zhang Yu-ming,Zhang Yi-men “Study of 4H-SiC Epitaxial n-Channel MOSFET” Chinese physics B Vol19 Number 4 April 2010 047204-1 SCI: 000276936200060, EI: 20101812905045 [3]. Xiaoyan Tang, Yuming Zhang, Zhiyun Li, Yimen Zhang“Thickness determination of 4H-SiC Epitaxial Films by Infrared Reflectance ”IEEE International Conference on Electron Devices and Solid-State Circuits, November 25-27,,2009 EI: 20101212789831 [4]. 汤晓燕,张义门,张玉明“SiC肖特基源漏MOSFET的阈值电压”物理学报 Vol.58 NO.1,2009 pp494-497 SCI:000262834300077 [5]. Tang Xiao-yan ,Zhang Yi-men,Zhang Yu-ming, Gao Jin-xia “ 6H-SiC Schottky Barrier Source/Drain NMOSFETs with Field-Induced Source/Drain Extension” Chinese Physics 2005 14(3): 583-585 SCI检索: 000227798000028 EI:05379354179