阎鑫
阎鑫
性      别: 职      称: 教育,高等学校教师,副教授
籍      贯: 陕西省 西安市 现 居 地:
毕业院校: 西北工业大学 专      业: 材料物理化学
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出生年月: 工作单位: 长安大学材料科学与工程学院
邮       箱: xinyan@chd.edu.cn 联系电话:
学       历: 博士

【人物简介】

  阎鑫,2005年12月毕业于西北工业大学理学院应用化学系材料物理化学专业,获博士学位。在国际国内重要学术期刊共发表多篇学术论文,获得4项国家发明专利,2007年获得陕西省科技进步一等奖。

【研究方向】

纳米材料制备及性能研究,功能薄膜材料的研究。

【研究成果】

【科研项目】

  主持的科研项目:   铌酸钾钠基无铅压电薄膜的制备及性能研究   煤炭干馏液化新技术研究;煤炭加氢热解研究   钛酸锶钡铋锌铌多层复合薄膜的制备及介电可调特性研究。

【论文著作】

  1. Xin Yan, Wen Ren, Peng Shi, Enhanced tunable dielectric properties ofBa0.5Sr0.5TiO3/Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7 multilayer thin films by a sol-gel process.Thin Solid Films,2011,520:789-792   2.Xin Yan, Wen Ren, Peng Shi, Xiaoqing Wu, Xiaofeng Cheng, Xi Yao.Processing and properties of Ba0.5Sr0.5TiO3/Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7/Ba0.5Sr0.5TiO3Sandwich Thin Films for Tunable Microwave Devices. Ferroelectrics, 2010,406:3-9   3. Xin Yan, Wen Ren, Peng Shi, Xiaoqing Wu, Xi Yao. Lead-free (K, Na)NbO3 ferroelectric thin films preparation,structure and electrical properties.Journal of alloys and compounds, 2010,508:129-132   4. Xin Yan, Wen Ren, Peng Shi, Xiaoqing Wu, Xiaofeng Cheng, Xi Yao, Structures and tunability of Ba0.5Sr0.5TiO3/Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7 multilayer thin films grown on Pt/Al2O3 substrates Ferroelectrics, 2009,384:98-105   5.Xin Yan, Wen Ren, Peng Shi, Xiaoqing Wu, Xiaofeng Cheng, Xi Yao,Ba0.5Sr0.5TiO3/Bi1.5Zn1.0Nb1.5TiO7 multilayer thin films prepared by sol–gel method. Applied Surface Science 2008,255: 2129–2132   6.Xin Yan, Qiuyu Zhang, Xiaodong Fan, New MOCVD precursor for iridium thin films deposition. Materials Letters, 2007,61:216-218   7. 阎鑫,任巍,金属有机盐热分解法制备铌酸钾钠无铅压电薄膜.电子元件与材料,2010.29(10):25-27   8. 阎鑫,胡小玲,岳红,张秋禹,卢锦花,纳米微孔NixZn(1-x)Fe2O4的水热合成研究. 无机化学学报,2002,18(7):693-696   9.阎鑫,张秋禹,范晓东,一种新的β二酮铱MOCVD前驱体的制备及成膜性能. 稀有金属材料与工程, 2006,35(7):1129-1131   10. 阎鑫,张秋禹,乙酰丙酮铱配合物的合成及热分解机制研究. 稀有金属,2010,34(4):585-589   11.阎鑫,张秋禹,田琴,张军平,赵雯,张和鹏,韩磊,三氟乙酰丙酮的合成与表征. 精细化工, 2005,22(5):337-338   12.阎鑫,张秋禹,范晓东,三乙酰丙酮铱的合成及性质研究. 中国稀土学报,2002,20:238-240   13.阎鑫,张秋禹,MOCVD法制备高温抗氧化铱涂层研究进展. 宇航材料工艺,2003,33(2):1-9   14.阎鑫,张秋禹,卢锦花,赵雯,张军平,范晓东,铱金属及其氧化物薄膜的制备与应用研究进展. 稀有金属,2004,28(4):756-761

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